Fabricante holandés de máquinas de litografía ASML destronó recientemente a Applied Materials para convertirse en el mayor fabricante de herramientas fabulosas del mundo, y su futuro parece aún más brillante tras la noticia de que está preparando la producción de su nueva máquina EUV (ultravioleta extremo) de alta NA (apertura numérica).
Este sistema, que tiene aproximadamente el tamaño de un autobús de dos pisos y pesa 150.000 kilogramos, es capaz de grabar líneas de sólo 8 nm de ancho en semiconductores. Se trata de una reducción significativa con respecto a la generación anterior, lo que permite incluir más transistores en un chip, lo que conduce a un procesamiento más rápido y una mayor capacidad de almacenamiento, algo fundamental para las aplicaciones de IA.
Intelun cliente importante, ya recibió su primera máquina en su fábrica D1X en Oregón y planea comenzar la producción utilizando el sistema a finales de 2025.
No para China
“El objetivo de Intel es mantenerse a la vanguardia de la tecnología de litografía de semiconductores y hemos estado desarrollando nuestra experiencia y capacidad EUV durante el último año. Trabajando estrechamente con ASML, aprovecharemos el patrón de alta resolución de High-NA EUV como una de las formas en que continuamos con la Ley de Moore y mantenemos nuestra sólida historia de progresión hasta la más pequeña de las geometrías”, dijo la Dra. Ann Kelleher, vicepresidenta ejecutiva y director general de Desarrollo Tecnológico de Intel.
ASML dice que hasta la fecha ha recibido entre 10 y 20 pedidos de su máquina, cuyo precio es de 350 millones de dólares, lo que indica expectativas optimistas para la tecnología. Esto se produce a pesar de las acusaciones relativas a la rentabilidad de la herramienta de litografía de próxima generación para los próximos nodos.
Aunque China fue el segundo mercado más grande de ASML el año pasado, informes de Reuters El nuevo dispositivo no se venderá a fabricantes allí, luego de las medidas enérgicas del gobierno de Estados Unidos contra la exportación de tecnología de punta a la República Popular.
La litografía EUV, exclusiva de ASML, imprime microchips utilizando luz con una longitud de onda de sólo 13,5 nm, casi el rango de los rayos X. ASML (e Intel) dicen que la tecnología está impulsando la Ley de Moore y respaldando nuevos diseños de transistores y arquitecturas de chips.
Se espera que la nueva plataforma respalde la fabricación de chips en gran volumen en 2025-2026, lo que permitirá el escalado geométrico de chips en la próxima década. Al reducir la cantidad de pasos del proceso en la fabricación de gran volumen, los fabricantes de chips podrían beneficiarse de reducciones significativas en defectos, costos y tiempo de ciclo.